超低濃度シリカ測定装置 STAA-3（スタースリー）
ケイ素測定の問題点
ICP－OESやICP-MSでは装置からのシリカ溶出や質量干渉の為、低濃度を測定することが困難でした。また、夾雑物多く含む試料を測定する場合希釈を行い、またマトリクスマッチングを行う必要もあったため、分析にとても手間がかかっておりました。
これらを全て解決した装置、それがSTAA-3です。JIS H 1403(2011)タングステン材料の分析方法の四ふっ化けい素気化分離-吸光光度法の分析機序を用いた、超低濃度ケイ素を測定する分析装置です。
STAA-3の特徴
シリカを分離することで夾雑物からの影響を受けず、またマトリクスマッチングを行う必要もなくなりました。夾雑物の影響を受けないことから、試料を濃縮することもできるため、これまで測定が出来なかった、超低濃度領域のケイ素を測定することが可能となりました。
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